「三價鉻電鍍」三價鉻電鍍出現(xiàn)沉淀的原因以及管控方法-仁昌分享

電鍍?nèi)齼r鉻是目前比較實用的代替六價鉻的電鍍工藝，鍍液主要有硫酸鹽和氯化物體系的鍍液。

同樣的毒液在使用的過程中會出現(xiàn)各種各樣的問題，其中一種就是鍍液沉淀。

發(fā)生這種故障的主要原因有：

1、鍍液的pH值偏高;鍍液的密度太大;鍍液中的穩(wěn)定劑含量不當(dāng);鍍液中主鹽的含量太高等。?

因為當(dāng)鍍液pH>3時，往往會導(dǎo)致鍍液中的三價鉻出現(xiàn)沉淀。氯化物三傷鉻鍍液的pH值調(diào)整通常是采用氨水/鹽酸，在調(diào)整鍍液的pH值時，pH值發(fā)生變化到穩(wěn)定的時間較長，所以需要精確計算需要加入的量，避免pH>3時鍍沼出現(xiàn)Cr(OH)3，要嚴(yán)格控制鍍液的pH值在工藝要求范圍內(nèi)。

2、需要嚴(yán)格控制三價鉻電鍍需要將鍍液的密度，密度太高也容易使得鍍鉻沼出現(xiàn)沉淀，氯化物三價鉻鍍液密度的控制范圍為1.20～1.24，鍍液的密度太高時需要用純水稀釋。?

3、通常情況下三價鉻鍍液中含有一定的絡(luò)合劑，如果絡(luò)合劑含量不當(dāng)也會出現(xiàn)鍍液沉淀，絡(luò)合劑需要嚴(yán)格按照安培小時消耗進(jìn)行補加或通過滴定分析來進(jìn)行調(diào)整。?

4、嚴(yán)格控制三價鉻鍍液中的三價鉻含量，含量過低會導(dǎo)致鍍鉻層沉積速度慢，含量過高會導(dǎo)致鍍液沉淀，氯化物三價鉻鍍液的三價鉻控制范圍為209/L～239/L。

三價鉻濃度的調(diào)整可以根據(jù)滴定分析結(jié)果進(jìn)行。?

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